本产品为LAM公司生产的VECOR Q、PECVD四个腔完整一套设备,专为半导体制造行业设计,广泛应用于薄膜沉积工艺中。该设备采用先进的技术,确保在高精度和高稳定性的条件下完成复杂的半导体加工任务。
设备整体采用坚固的金属外壳,内部结构紧凑,多个腔室设计使其能够同时处理多种工艺需求,提高生产效率。整机使用透明塑料薄膜包裹,防止在运输过程中受到污染或损坏,确保交付时处于最佳状态。
该设备适用于各类半导体制造工厂,特别是在需要高精度薄膜沉积的环节中表现卓越。无论是研发实验室还是大规模生产线,都能发挥其强大的性能优势。
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